3D形状测量共聚焦显微镜自动检测/审查装置
OPTELICS AI²
1台设备就可无缝实现自动缺陷检测 → 高倍缺陷复核 → 三维形貌测量全流程。
在半导体器件市场中,功率器件、5G、HPC等各个领域的需求持续增长,半导体器件制造工艺需要持续的产品开发来提升性能。利用新设计、新材料的器件商业化,需要跨部门解决众多课题,包括样机评估、量产时的质量管理、为提高良品率而进行的工艺改进等。
"AI²"能够从自动缺陷检测到缺陷审查、三维形状测量,一台设备即可应对,从开发到生产的各个场景都能发挥作用。
本设备整合了我司核心技术 —— 共聚焦光学系统、在半导体检测设备研发中积淀的自动化检测软件,以及全新设计的高速运行硬件,兼具高通量高速检测功能,与共聚焦显微镜实现的高倍率形貌测量功能。同时,搭载基于Deep Learning的 AI 检测技术,可提供高精度图像分类、带图案晶圆检测、特定缺陷提取等高端检测功能。
特点
从自动缺陷检测到缺陷审查、三维形状测量,一台设备即可应对
共聚焦光学系统的高倍率形状测量功能
采用深度学习的AI检测技术
高精度图像分类功能
支持带图案基板检测
特定类型缺陷提取功能
应用
半导体器件样机评估
量产时的质量管理
为提高良品率而进行的工艺改进
功率器件、5G、HPC相关器件的检测
新设计、新材料器件的评估